Databáze patentů

FZU nabízí k využití svoje portfolio českých a mezinárodních patentů. Patentové přihlášky jsou připravovány ústavním patentovým zástupcem, který působí jako český i evropský zástupce. Licence k využití průmyslových práv je obvykle poskytována jako nevýhradní, ovšem na základě individuálních jednání jsou možné i jiné formy. Licenční ujednání jsou zprostředkována skupina Transferu znalosti a technologií.

  1. G. Broncová, J. Otta, S. Hermochová, M. Vrňata, P. Hlavín, M. Novotný
    Electrochemical cell
  2. S. Štarman, Z. Kváča, J. Lančok
    Ultrasonic radiation wave lithography of atomizing particles
  3. S. Štarman, Z. Kváča, J. Lančok
    Pseudoplastics with smart materials for atomization lithography
  4. J. Juryšek, za FZU, T. Tavenier, V. Novotný, J. Blažek, S.R. Muthyala)
    sst1mpipe
  5. J. Wunderlich, T. Jungwirth, A. Irvine, J. Sinova
    Spin-polarised charge carrier device
  6. J. Bárta, V. Čuba, V. Múčka, M. Nikl, M. Pospíšil
    Process for preparing synthetic structures based on lutetium-aluminium garnet (LuAG))
  7. K. Kůsová, O. Cibulka, K. Dohnalová, K. Žídek, A. Fučíková, I. Pelant
    Method for the preparation of optically clear solution of silicon nanocrystals with short-wavelength luminescence
  8. P. Adámek, M. Čada, Z. Hubička, P. Virostko, L. Jastrabík, J. Olejníček, V. Straňák, R. Hippler, H. T. Do
    Diagnostics method for time-resolved laser absorption spectroscopy in pulsed plasmas and measuring system for the implementation of this diagnostics method.
  9. J. Wunderlich, T. Jungwirth, J. Zemen, B. Gallagher, C. Chappert, D. Thibaut
    Method of controlling a magnetoresistive device using an electric field pulse
  10. P. Adámek, M. Čada, Z. Hubička, L. Jastrabík, J. Adámek, J. Stöckel
    Diagnostics system for measurement of ion distribution function in low-temperature plasma and probe for diagnostics system
  11. O. Churpita, Z. Hubička, A. Dejneka, L. Jastrabík, V. Zablotskyy, E.Syková, Š. Kubinová
    Device for generation of low-temperature plasma with tunable density of ionized particles
  12. Z. Hubička, A. Dejneka, M. Čada, P. Adámek, L. Jastrabík, G. Suchaneck, J. Olejníček, Š. Kment, V. Straňák
    Plasma system developed for deposition of perovskite thin films
  13. P. Boháč, K. Cvrk, R. Čtvrtlík, V. Koula, Z. Hubička, M. Hrabovský, L. Jastrabík
    Equipment for resistance evaluation of layers and coatings using acoustic emission analysis of scratch test.
  14. M. Pech, D. Mandát, P. Schovánek, M. Palatka, J. Řídký, M. Hrabovský, P. Horváth
    Apparatus for analysis of night sky background light
  15. Z. Hubička, M. Čada, P. Kšírová, Jiří Šmíd, J. Olejníček, Š. Kment
    Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes
  16. J. Šmíd, J. Olejníček, M. Čada, Š. Kment, V. Straňák, Z. Hubička, O. Babčenko, A. Kromka, Š. Potocký, P. Lukašík, A. Piják, J. Dolák, P. Martinek, J. Pitrun, Š. Rek, L. Konečný, G. Mareš, J. Štěpánek, J. Jakeš, Z. Křenek, M. Joštic
    Automatic system of mass flow control of working gasses in MW plasma system PLASMASTR02 with plasma jet channels.
  17. J. Holovský, Z. Remeš, A. Piják
    METHODOLOGY OF NOT DESTRUCTIVE DETERMINATION OF PHOSPHORUS CONCENTRATION PROFILE IN SI WAFERS
  18. J. Holovský, Z. Remeš, A. Piják
    METHODOLOGY OF NOT DESTRUCTIVE DETERMINATION OF BORON CONCENTRATION PROFILE IN SI WAFERS